Волфрам силицид прах ВСи2 прах

Волфрам силицид (ВСи2) је неорганско једињење које је силицид волфрама. То је проводни керамички материјал.

Користи се у микроелектроници као контактни материјал са отпорношћу 60-80 μΩ цм; Формира се на 1000 степени. Често се користи као шант за полисиликонске жице како би се повећала њихова проводљивост и брзина сигнала. Слој волфрам силицида се може припремити хемијским таложењем из паре, на пример коришћењем моносилана или дихлоросилана са волфрам хексафлуоридом као изворним гасом. Депоновани филм је нестехиометријски и потребно му је жарење да би се претворио у проводљивији стехиометријски облик. Волфрам силицид је рана алтернатива волфрамовом филму. Волфрам силицид се такође користи као заштитни слој између силицијума и других метала као што је волфрам.

Волфрам силицид такође има примену у микроелектромеханичким системима, и углавном се користи као танак филм за производњу кола микроразмера. У ту сврху, фолије волфрам силицида могу се нагризати плазмом коришћењем, на пример, гаса азот трифлуорида.

ВСи2 се добро понаша у антиоксидационим премазима. Конкретно, слично дисилициду молибдена (МоСи2), висока емисивност волфрам дисилицида чини овај материјал атрактивним за високотемпературно радијационо хлађење и утиче на термичку заштиту.